簡(jiǎn)單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過(guò)等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù)
它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備
相對(duì)于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空UV電鍍的鍍膜硬度超過(guò)4H、95%酒精浸泡48小時(shí)畫(huà)格無(wú)脫落，鍍層厚度均勻、光澤度好、附著力強(qiáng)、高硬度、高致密度、耐酒精、耐刮擦、耐腐蝕、耐磨性能優(yōu)良。
真空uv電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)：
（1.
沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系
（2.
節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的
（3.
無(wú)環(huán)境污染：
由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，沒(méi)有溶液污染，所以對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小
但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒(méi)有大量被推廣,其投資和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴
但是隨著-的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來(lái)越明顯，在某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的。